طیف‌سنجی پلاسمای جفت‌شده القایی (Persian Wikipedia)

Analysis of information sources in references of the Wikipedia article "طیف‌سنجی پلاسمای جفت‌شده القایی" in Persian language version.

refsWebsite

Global rank Persian rank

2web.archive.org

1^st place

2archive.org

6^th place

9^th place

2harvard.edu

18^th place

50^th place

2doi.org

2^nd place

1umd.edu

1,747^th place

1,733^rd place

1nano.ir

low place

6,443^rd place

1worldcat.org

5^th place

12^th place

1arxiv.org

69^th place

253^rd place

archive.org (Global: 6^th place; Persian: 9^th place)

A. Montaser and D. W. Golightly, eds. (1992). Inductively Coupled Plasmas in Analytical Atomic Spectrometry. VCH Publishers, Inc. , New York,. {{cite book}}: |author= has generic name (help)نگهداری CS1: نقطه‌گذاری اضافه (link)
Pascal Chambert and Nicholas Braithwaite (2011). "Physics of Radio-Frequency Plasmas". Cambridge University Press, Cambridge: 219–259. ISBN 978-0-521-76300-4. {{cite journal}}: Cite journal requires |journal= (help)

arxiv.org (Global: 69^th place; Persian: 253^rd place)

Ben Ohayon, Erik Wahlin and Guy Ron (2015). "Characterization of a metastable neon beam extracted from a commercial RF ion source". 10 (03). Journal of Instrumentation, Cambridge: P03009. arXiv:1502.05376. Bibcode:2015JInst..10P3009O. doi:10.1088/1748-0221/10/03/P03009. {{cite journal}}: Cite journal requires |journal= (help)

doi.org (Global: 2^nd place; Persian: 2^nd place)

Shun'ko, Evgeny V.; Stevenson, David E.; Belkin, Veniamin S. (2014). "Inductively Coupling Plasma Reactor With Plasma Electron Energy Controllable in the Range From ~6 to ~100 eV". IEEE Transactions on Plasma Science. 42 (3): 774–785. Bibcode:2014ITPS...42..774S. doi:10.1109/TPS.2014.2299954. ISSN 0093-3813.
Ben Ohayon, Erik Wahlin and Guy Ron (2015). "Characterization of a metastable neon beam extracted from a commercial RF ion source". 10 (03). Journal of Instrumentation, Cambridge: P03009. arXiv:1502.05376. Bibcode:2015JInst..10P3009O. doi:10.1088/1748-0221/10/03/P03009. {{cite journal}}: Cite journal requires |journal= (help)

harvard.edu (Global: 18^th place; Persian: 50^th place)

ui.adsabs.harvard.edu

Shun'ko, Evgeny V.; Stevenson, David E.; Belkin, Veniamin S. (2014). "Inductively Coupling Plasma Reactor With Plasma Electron Energy Controllable in the Range From ~6 to ~100 eV". IEEE Transactions on Plasma Science. 42 (3): 774–785. Bibcode:2014ITPS...42..774S. doi:10.1109/TPS.2014.2299954. ISSN 0093-3813.
Ben Ohayon, Erik Wahlin and Guy Ron (2015). "Characterization of a metastable neon beam extracted from a commercial RF ion source". 10 (03). Journal of Instrumentation, Cambridge: P03009. arXiv:1502.05376. Bibcode:2015JInst..10P3009O. doi:10.1088/1748-0221/10/03/P03009. {{cite journal}}: Cite journal requires |journal= (help)

nano.ir (Global: low place; Persian: 6,443^rd place)

edu.nano.ir

فاطمه اسفندیاری بیات (نویسنده اول)، محسن سروری (نویسنده مسئول). «طیف سنجی پلاسمای جفت شده القایی (ICP) و ترکیب آن با طیف سنج جرمی (ICP-MS)». سیستم جامع آموزش فناوری نانو. بایگانی‌شده از اصلی در ۱۳ اکتبر ۲۰۱۶. دریافت‌شده در ۱۳ اکتبر ۲۰۱۶.

umd.edu (Global: 1,747^th place; Persian: 1,733^rd place)

ipr.umd.edu

High density fluorocarbon etching of silicon in an inductively coupled plasma: Mechanism of etching through a thick steady state fluorocarbon layer بایگانی‌شده در ۷ فوریه ۲۰۱۶ توسط Wayback Machine T. E. F. M. Standaert, M. Schaepkens, N. R. Rueger, P. G. M. Sebel, and G. S. Oehrleinc

web.archive.org (Global: 1^st place; Persian: 1^st place)

High density fluorocarbon etching of silicon in an inductively coupled plasma: Mechanism of etching through a thick steady state fluorocarbon layer بایگانی‌شده در ۷ فوریه ۲۰۱۶ توسط Wayback Machine T. E. F. M. Standaert, M. Schaepkens, N. R. Rueger, P. G. M. Sebel, and G. S. Oehrleinc
فاطمه اسفندیاری بیات (نویسنده اول)، محسن سروری (نویسنده مسئول). «طیف سنجی پلاسمای جفت شده القایی (ICP) و ترکیب آن با طیف سنج جرمی (ICP-MS)». سیستم جامع آموزش فناوری نانو. بایگانی‌شده از اصلی در ۱۳ اکتبر ۲۰۱۶. دریافت‌شده در ۱۳ اکتبر ۲۰۱۶.

worldcat.org (Global: 5^th place; Persian: 12^th place)

Shun'ko, Evgeny V.; Stevenson, David E.; Belkin, Veniamin S. (2014). "Inductively Coupling Plasma Reactor With Plasma Electron Energy Controllable in the Range From ~6 to ~100 eV". IEEE Transactions on Plasma Science. 42 (3): 774–785. Bibcode:2014ITPS...42..774S. doi:10.1109/TPS.2014.2299954. ISSN 0093-3813.

طیف‌سنجی پلاسمای جفت‌شده القایی (Persian Wikipedia)

archive.org (Global: 6th place; Persian: 9th place)

arxiv.org (Global: 69th place; Persian: 253rd place)

doi.org (Global: 2nd place; Persian: 2nd place)

harvard.edu (Global: 18th place; Persian: 50th place)