Silane (famille de composés) (French Wikipedia)

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doi.org

dx.doi.org

  • (en) Alfred Stock, « Zur Nomenklatur der Silicium‐verbindungen », Berichte der deutschen chemischen Gesellschaft, vol. 50, no 1,‎ , p. 169-170 (DOI 10.1002/cber.19170500127, lire en ligne)
  • (de) Alfred Stock, Paul Stiebeler et Friedrich Zeidler, « Siliciumwasserstoffe, XVI.: Die höheren Siliciumhydride », Berichte der deutschen chemischen Gesellschaft (A and B Series), vol. 56, no 7,‎ , p. 1695-1705 (DOI 10.1002/cber.19230560735, lire en ligne)
  • (en) Barry Arkles, Youlin Pan, Fernando Jove, Jonathan Goff et Alain Kaloyeros, « Synthesis and Exploratory Deposition Studies of Isotetrasilane and Reactive Intermediates for Epitaxial Silicon », Inorganic Chemistry, vol. 58, no 5,‎ , p. 3050-3057 (PMID 30785274, DOI 10.1021/acs.inorgchem.8b02761, lire en ligne)
  • (en) James C. Sturm et Keith H. Chung, « Chemical Vapor Deposition Epitaxy of Silicon-based Materials using Neopentasilane », ECS Transactions, vol. 16, no 10,‎ , p. 799 (DOI 10.1149/1.2986839, Bibcode 2008ECSTr..16j.799S, lire en ligne)
  • (de) G. Schott et C. Harzdorf, « Silane. I Alkalische Solvolyse von Triorganosilanen », Zeitschrift für anorganische une allgemeine Chemie, vol. 306, nos 3-4,‎ , p. 180-190 (DOI 10.1002/zaac.19603060306, lire en ligne)
  • (en) Jingwei Song, Xiying Ma, Wang Zui, Chen Wei et Zhongpin Chen, « Fabrication of Si3N4 Nanocrystals and Nanowires Using PECVD », Advances in Materials Sciences and Engineering, vol. 2010,‎ , article no 892792 (DOI 10.1155/2010/892792, lire en ligne)
  • (en) J. R. Flemish et R. L. Pfeffer, « Low hydrogen content silicon nitride films from electron cyclotron resonance plasmas », Journal of Applied Physics, vol. 74, no 5,‎ , p. 3277-3281 (DOI 10.1063/1.355318, Bibcode 1993JAP....74.3277F, lire en ligne)
  • (de) Josef Goubeau et Rudolf Warncke, « Zur Hydrolyse von Halogeniden. I. Die Hydrolyse des Siliciumtetrachlorids », Zeitschrift für anorganische Chemie, vol. 259, nos 1-4,‎ , p. 109-120 (DOI 10.1002/zaac.19492590109, lire en ligne)
  • (de) Eugen Unger, « Die Erzeugung dünner Schichten. Das PECVD‐Verfahren: Gasphasenabscheidung in einem Plasma », Chemie in unzerer Zeit, vol. 25, no 3,‎ , p. 148-158 (DOI 10.1002/ciuz.19910250306, lire en ligne)

gelest.com

  • (en) [PDF] Barry Arkles, « Silanes », p. 39, réimpression de Kirk-Othmer, Encyclopedia of Chemical Technology, 4e édition, vol. 22, John Wiley & Sons, 1997, p. 38-69. (ISBN 0-471-52691-6)

harvard.edu

ui.adsabs.harvard.edu

hindawi.com

  • (en) Jingwei Song, Xiying Ma, Wang Zui, Chen Wei et Zhongpin Chen, « Fabrication of Si3N4 Nanocrystals and Nanowires Using PECVD », Advances in Materials Sciences and Engineering, vol. 2010,‎ , article no 892792 (DOI 10.1155/2010/892792, lire en ligne)

iop.org

iopscience.iop.org

iupac.org

goldbook.iupac.org

nih.gov

ncbi.nlm.nih.gov

  • (en) Barry Arkles, Youlin Pan, Fernando Jove, Jonathan Goff et Alain Kaloyeros, « Synthesis and Exploratory Deposition Studies of Isotetrasilane and Reactive Intermediates for Epitaxial Silicon », Inorganic Chemistry, vol. 58, no 5,‎ , p. 3050-3057 (PMID 30785274, DOI 10.1021/acs.inorgchem.8b02761, lire en ligne)

researchgate.net

  • (en) Barry Arkles, Youlin Pan, Fernando Jove, Jonathan Goff et Alain Kaloyeros, « Synthesis and Exploratory Deposition Studies of Isotetrasilane and Reactive Intermediates for Epitaxial Silicon », Inorganic Chemistry, vol. 58, no 5,‎ , p. 3050-3057 (PMID 30785274, DOI 10.1021/acs.inorgchem.8b02761, lire en ligne)

scitation.org

aip.scitation.org

web.archive.org

wiley.com

onlinelibrary.wiley.com

  • (de) G. Schott et C. Harzdorf, « Silane. I Alkalische Solvolyse von Triorganosilanen », Zeitschrift für anorganische une allgemeine Chemie, vol. 306, nos 3-4,‎ , p. 180-190 (DOI 10.1002/zaac.19603060306, lire en ligne)
  • (de) Josef Goubeau et Rudolf Warncke, « Zur Hydrolyse von Halogeniden. I. Die Hydrolyse des Siliciumtetrachlorids », Zeitschrift für anorganische Chemie, vol. 259, nos 1-4,‎ , p. 109-120 (DOI 10.1002/zaac.19492590109, lire en ligne)
  • (de) Eugen Unger, « Die Erzeugung dünner Schichten. Das PECVD‐Verfahren: Gasphasenabscheidung in einem Plasma », Chemie in unzerer Zeit, vol. 25, no 3,‎ , p. 148-158 (DOI 10.1002/ciuz.19910250306, lire en ligne)

chemistry-europe.onlinelibrary.wiley.com

  • (en) Alfred Stock, « Zur Nomenklatur der Silicium‐verbindungen », Berichte der deutschen chemischen Gesellschaft, vol. 50, no 1,‎ , p. 169-170 (DOI 10.1002/cber.19170500127, lire en ligne)
  • (de) Alfred Stock, Paul Stiebeler et Friedrich Zeidler, « Siliciumwasserstoffe, XVI.: Die höheren Siliciumhydride », Berichte der deutschen chemischen Gesellschaft (A and B Series), vol. 56, no 7,‎ , p. 1695-1705 (DOI 10.1002/cber.19230560735, lire en ligne)