M.E. Alperin, T.C. Hollaway, R.A. Haken et C.D. Gosmeyer, « Development of the Self-Aligned Titanium Silicide Process for VLSI Applications », IEEE Journal of Solid-State Circuits, vol. 20, no 1, 1985-02-xx, p. 61–69 (ISSN0018-9200 et 1558-173X, DOI10.1109/JSSC.1985.1052277, lire en ligne, consulté le )
ieee.org
ieeexplore.ieee.org
M.E. Alperin, T.C. Hollaway, R.A. Haken et C.D. Gosmeyer, « Development of the Self-Aligned Titanium Silicide Process for VLSI Applications », IEEE Journal of Solid-State Circuits, vol. 20, no 1, 1985-02-xx, p. 61–69 (ISSN0018-9200 et 1558-173X, DOI10.1109/JSSC.1985.1052277, lire en ligne, consulté le )
issn.org
portal.issn.org
M.E. Alperin, T.C. Hollaway, R.A. Haken et C.D. Gosmeyer, « Development of the Self-Aligned Titanium Silicide Process for VLSI Applications », IEEE Journal of Solid-State Circuits, vol. 20, no 1, 1985-02-xx, p. 61–69 (ISSN0018-9200 et 1558-173X, DOI10.1109/JSSC.1985.1052277, lire en ligne, consulté le )