Front end of line (FEOL) (Indonesian Wikipedia)

Analysis of information sources in references of the Wikipedia article "Front end of line (FEOL)" in Indonesian language version.

refsWebsite

Global rank Indonesian rank

3^rd place

6^th place

low place

books.google.com

Karen A. Reinhardt and Werner Kern (2008). Handbook of Silicon Wafer Cleaning Technology (edisi ke-2nd). William Andrew. hlm. 202. ISBN 978-0-8155-1554-8.

"FEOL (Front End of Line: substrate process, the first half of wafer processing) 1. Isolation | USJC：United Semiconductor Japan Co., Ltd". USJC：United Semiconductor Japan Co., Ltd. | 三重県桑名市の300mm半導体ウェーハ工場を製造拠点にしたファウンドリ専業メーカーです。超低消費電力、不揮発メモリなど先進テクノロジーを世界中のお客様に提供しています。 (dalam bahasa Jepang). 2019-02-22. Diakses tanggal 2022-09-27.