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熱酸化 (Japanese Wikipedia)

Analysis of information sources in references of the Wikipedia article "熱酸化" in Japanese language version.

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4doi.org
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2karadimov.info
low place
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2nii.ac.jp
304th place
20th place
1handle.net
102nd place
78th place
1worldcat.org
5th place
19th place
1ualberta.ca
3,600th place
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doi.org

  • Liu, M.; Peng, J. (2016). “Two-dimensional modeling of the self-limiting oxidation in silicon and tungsten nanowires”. Theoretical and Applied Mechanics Letters 6 (5): 195–199. doi:10.1016/j.taml.2016.08.002. https://doi.org/10.1016/j.taml.2016.08.002. 
  • Liu, M. (2016). “Two-dimensional modeling of the self-limiting oxidation in silicon and tungsten nanowires”. Theoretical and Applied Mechanics Letters 6 (5): 195–199. doi:10.1016/j.taml.2016.08.002etal 
  • 木下圭『枚葉回転湿式技術による半導体表面処理に関する研究』 法政大学〈博士（工学） 乙第216号〉、2015年。doi:10.15002/00011060。NAID 500000935159。https://doi.org/10.15002/00011060。 
    木下圭「枚葉回転湿式技術による半導体表面処理に関する研究」『法政大学大学院紀要. 理工学・工学研究科編』第56巻、法政大学大学院理工学・工学研究科、2015年、1-9頁、hdl:10114/10779、ISSN 2187-9923、NAID 120005616117。 
  • Kuiper, AET; Willemsen, MFC; Bax, JMG; Habraken, FHPH (1988). “Oxidation behaviour of LPCVD silicon oxynitride films”. Applied Surface Science (Elsevier) 33: 757-764. doi:10.1016/0169-4332(88)90377-7. https://doi.org/10.1016/0169-4332(88)90377-7. 

handle.net

hdl.handle.net

  • 木下圭『枚葉回転湿式技術による半導体表面処理に関する研究』 法政大学〈博士（工学） 乙第216号〉、2015年。doi:10.15002/00011060。NAID 500000935159。https://doi.org/10.15002/00011060。 
    木下圭「枚葉回転湿式技術による半導体表面処理に関する研究」『法政大学大学院紀要. 理工学・工学研究科編』第56巻、法政大学大学院理工学・工学研究科、2015年、1-9頁、hdl:10114/10779、ISSN 2187-9923、NAID 120005616117。 

karadimov.info

educypedia.karadimov.info

nii.ac.jp

ci.nii.ac.jp

  • 木下圭『枚葉回転湿式技術による半導体表面処理に関する研究』 法政大学〈博士（工学） 乙第216号〉、2015年。doi:10.15002/00011060。NAID 500000935159。https://doi.org/10.15002/00011060。 
    木下圭「枚葉回転湿式技術による半導体表面処理に関する研究」『法政大学大学院紀要. 理工学・工学研究科編』第56巻、法政大学大学院理工学・工学研究科、2015年、1-9頁、hdl:10114/10779、ISSN 2187-9923、NAID 120005616117。 

cir.nii.ac.jp

  • APPELS J. A. (1970). “Local oxidation of silicon and its application in semiconductor device technology”. Philips Research Reports 25 (2): 118-132. CRID 1572261549368729472. 

ualberta.ca

toolbox.nanofab.ualberta.ca

worldcat.org

search.worldcat.org

  • 木下圭『枚葉回転湿式技術による半導体表面処理に関する研究』 法政大学〈博士（工学） 乙第216号〉、2015年。doi:10.15002/00011060。NAID 500000935159。https://doi.org/10.15002/00011060。 
    木下圭「枚葉回転湿式技術による半導体表面処理に関する研究」『法政大学大学院紀要. 理工学・工学研究科編』第56巻、法政大学大学院理工学・工学研究科、2015年、1-9頁、hdl:10114/10779、ISSN 2187-9923、NAID 120005616117。