Mapper Lithography (Russian Wikipedia)

Analysis of information sources in references of the Wikipedia article "Mapper Lithography" in Russian language version.

refsWebsite

Global rank Russian rank

10web.archive.org

1^st place

1^st place

3,722^nd place

3,808^th place

low place

2,902^nd place

low place

low place

low place

low place

low place

low place

low place

low place

721^st place

47^th place

1euronanoforum2013.eu

low place

low place

low place

1,394^th place

eetimes.com

Peter Clarke (2012-28-08). "Russia backs e-beam lithography firm" (англ.). EETimes. Архивировано 10 января 2014. Дата обращения: 10 января 2014. {{cite news}}: Проверьте значение даты: |date= (справка)
Peter Clarke (2012-17-02). "TSMC set to receive Matrix 13,000 e-beam litho machine" (англ.). EETimes. Архивировано 10 января 2014. Дата обращения: 10 января 2014. {{cite news}}: Проверьте значение даты: |date= (справка)

euronanoforum2013.eu

Sergey Kalyuzhnyi (18-20 Jun 2013). "Cross-region investment EU-RUSSIA: RUSNANO experience" (PDF) (англ.). Rosnano, euronano forum 2013 (Dublin). Архивировано (PDF) 10 января 2014. Дата обращения: 10 января 2014. St. Petersburg 1. «Mapper» 2013

ispd.cc

Архивированная копия (неопр.). Дата обращения: 10 января 2014. Архивировано из оригинала 10 января 2014 года.

leti.fr

Synopsys Joins CEA-Leti’s IMAGINE Program on Maskless Lithography Архивная копия от 10 января 2014 на Wayback Machine // CEA-Leti, 19/09/2011: «IMAGINE. CEA-Leti and MAPPER Lithography launched the program in July 2009 with the delivery of MAPPER’s Massively Parallel Electron Beam Platform to Leti.»

nalog.ru

bo.nalog.ru

https://bo.nalog.ru/download/clarification/6967627 (недоступная ссылка)

ntmdt.ru

ТЕХНОЛОГИЧЕСКИЕ КОМПЛЕКСЫ НАНОЭЛЕКТРОНИКИ С ИСПОЛЬЗОВАНИЕМ СИСТЕМ БЕСШАБЛОННОЙ ЛИТОГРАФИИ Архивная копия от 10 января 2014 на Wayback Machine // журнал «Интеграл» № 3 (71) 2013, стр 80

rusnano.com

РОСНАНО инвестирует в безмасочную литографию с разрешением до 10 нм Архивная копия от 11 декабря 2013 на Wayback Machine // Пресс-релиз Роснано, 23 августа 2012
"Портфельная компания РОСНАНО Mapper Lithography приступила к производству ключевых элементов литографического оборудования нового поколения". Роснано. 2014-07-03. Архивировано 8 августа 2014. Дата обращения: 2 августа 2014.

sematech.org

Readiness of Multiple E-Beam Maskless Lithography (MEB ML2) Архивная копия от 10 января 2014 на Wayback Machine //23 Oct 2009, 6th International Symposium on Immersion Lithography Extensions

vedomosti.ru

Роман Дорохов (2012-08-23). "«Роснано» инвестирует 40 млн евро в нидерландскую компанию Mapper Lithography, разрабатывающую новую технологию производства микросхем. Часть производства будет размещена в России". Vedomosti.ru. Архивировано 10 января 2014. Дата обращения: 10 января 2014.

web.archive.org

Peter Clarke (2012-28-08). "Russia backs e-beam lithography firm" (англ.). EETimes. Архивировано 10 января 2014. Дата обращения: 10 января 2014. {{cite news}}: Проверьте значение даты: |date= (справка)
Readiness of Multiple E-Beam Maskless Lithography (MEB ML2) Архивная копия от 10 января 2014 на Wayback Machine //23 Oct 2009, 6th International Symposium on Immersion Lithography Extensions
Synopsys Joins CEA-Leti’s IMAGINE Program on Maskless Lithography Архивная копия от 10 января 2014 на Wayback Machine // CEA-Leti, 19/09/2011: «IMAGINE. CEA-Leti and MAPPER Lithography launched the program in July 2009 with the delivery of MAPPER’s Massively Parallel Electron Beam Platform to Leti.»
Архивированная копия (неопр.). Дата обращения: 10 января 2014. Архивировано из оригинала 10 января 2014 года.
ТЕХНОЛОГИЧЕСКИЕ КОМПЛЕКСЫ НАНОЭЛЕКТРОНИКИ С ИСПОЛЬЗОВАНИЕМ СИСТЕМ БЕСШАБЛОННОЙ ЛИТОГРАФИИ Архивная копия от 10 января 2014 на Wayback Machine // журнал «Интеграл» № 3 (71) 2013, стр 80
РОСНАНО инвестирует в безмасочную литографию с разрешением до 10 нм Архивная копия от 11 декабря 2013 на Wayback Machine // Пресс-релиз Роснано, 23 августа 2012
Роман Дорохов (2012-08-23). "«Роснано» инвестирует 40 млн евро в нидерландскую компанию Mapper Lithography, разрабатывающую новую технологию производства микросхем. Часть производства будет размещена в России". Vedomosti.ru. Архивировано 10 января 2014. Дата обращения: 10 января 2014.
Sergey Kalyuzhnyi (18-20 Jun 2013). "Cross-region investment EU-RUSSIA: RUSNANO experience" (PDF) (англ.). Rosnano, euronano forum 2013 (Dublin). Архивировано (PDF) 10 января 2014. Дата обращения: 10 января 2014. St. Petersburg 1. «Mapper» 2013
"Портфельная компания РОСНАНО Mapper Lithography приступила к производству ключевых элементов литографического оборудования нового поколения". Роснано. 2014-07-03. Архивировано 8 августа 2014. Дата обращения: 2 августа 2014.
Peter Clarke (2012-17-02). "TSMC set to receive Matrix 13,000 e-beam litho machine" (англ.). EETimes. Архивировано 10 января 2014. Дата обращения: 10 января 2014. {{cite news}}: Проверьте значение даты: |date= (справка)